Hafinnu tetrachlorsidica | Polvere hfcl4 | Cas 13499-05-3 | prezzu di fabbrica

Hafinnu tetrachlorsidica | Polvere hfcl4 | Cas 13499-05-3 | Prezzu di a fabbrica prisentatu maghjini

Breve descrizzione:

Hafin tetra d'hifnium hà un dispositivu impurtante cum'è precursa à l'Oxide di Haarchium, applicamenti organiche, apprusazioni di film, evidenza in diversi campi tecnulichi.

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Dettaglio di Produttu

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Descrizzione Produttu

Breve Introduzione

Nome di Produttu: tetradloride di l'hafnium
Cas no .: 13499-05-3
Formula cumpostu: HFCL4
Pesu Molecular: 320.3
Apparenza: polvere bianca

Specificazione

Articulu	Specificazione
Apparenza	Polvero biancu
HFCL4 + zRCL4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40PPM
Ti	≤20pram
Si	≤40PPM
Mg	≤20pram
Cr	≤20pram
Ni	≤5ppm
U	≤5ppm
Al	≤80mpm

Applicazione

Precursore diumentu hafnium: Sefinum ,braculu hè primurminatu cum'è precursore per pruduce hafriu diossidu (hfo2), un materiale cun eccellente Diequtie diequtifichi HFO2 hè largamente usatu in applicazioni di uepted di altu k per i transistoru è i capacitori in l'industria semiconductor. HFCL4 hè essenziale in a fabricazione di dispusitivi elettronichi avanzati per a so capacità di furmà filmi sottili di u diossidu di Hafnium.
Catalyst di sintesi organici: Safniu tetraditu pò esse usata cum'è catalizzatore per diverse reazzioni magiche Sintittesi Vernesi, in particulare i poliimerizazione I so proprietà acid di lewis aiuta per furmà intermedie attivi, per a migliurà l'efficienza di riazzioni chimichi. Questa applicazione hè preziosa in a produzzione di i polimeri è altri composti organici in l'industria chimica.
Applicazione nucleare: A causa di a so alta sezione trasparenza di neutronu, Hautnum tetrachloride hè largamente usata in applicazioni nucleari, in particulare in i bastoni di cuntrollu di i reattori nucleari. L'hacunum pò absorbisce effittivamente neutroni, dunque hè un materiale adattatu per regulà u prucessu di fissione, chì aiuta à migliurà a generazione di u putere nusculente.
Deposizione di film sottile: L'insignamentu di Hafnium hè adupratu in i prucessi di u vapore chimicu (CVD) per furmà filmi fina di materiali basati in Hafnium. Sti filmi sò indessenu in una varietà di applicazioni, cumprese microelectronica, ottica è di rivestimenti è prutezzione. A capacità di deposità uniforme, i filmi di alta qualità face HFCL4 preziosu in prucessi di fabricazione avanzata.